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当下以及未来,电子元器件的微型化及多功效化对器件的散热性提出了更高要求。高性能散热(热治理)质料需要具备低密度、高导热,及与半导体芯片质料热膨胀匹配,较好的强硬度,气密性优良等特点。钨铜和钼铜由于具有以上优势而往往被优先选择用于热导热沉质料。
计划优势
低密度:孔隙率低,产品气密性好
更高的热导率:未添加烧结活化元素,坚持着优异的导热性能
可冲制成零件:提供片材,成型件,也可以知足电镀需求
可设计的热膨胀系数:可以与差别基体相匹配
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当下以及未来,电子元器件的微型化及多功效化对器件的散热性提出了更高要求。高性能散热(热治理)质料需要具备低密度、高导热,及与半导体芯片质料热膨胀匹配,较好的强硬度,气密性优良等特点。钨铜和钼铜由于具有以上优势而往往被优先选择用于热导热沉质料。
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低密度:孔隙率低,产品气密性好
更高的热导率:未添加烧结活化元素,坚持着优异的导热性能
可冲制成零件:提供片材,成型件,也可以知足电镀需求
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